مطيافية إلكترون أوجيه لأفلام من أكسيد الزنك ZnO

Authors

  • طلال خلاص
  • عمار صارم

Abstract

أجريت دراسة التركيب الكيميائي السطحي بواسطة مطيافية إلكترون أوجيه(AES) لطبقات من أكسيد الزنك المنماة بطريقة الترسيب الذري الطبقي. وقد تم تحديد العناصر المتوافرة على سطوح المواد، وتعيين التركيز الذري للعناصر على السطوح. لوحظت كمية صغيرة فقط من الكربون أو من مركبات الكربون، تم إزالتها بسهولة من خلال قذفها بايونات الأرغون. كما تبين أيضا أن قذف سطح العينة بايونات الأرغون لمدة طويلة يستنفذ الأكسجين منه جزئيا.

A study of surface chemical composition has been performed by using Auger Electron Spectroscopy (AES) for ZnO layers grown by Atomic Layer Deposition (ALD) procedure.Elements on surface of materials were identified,and, an atomic concentration of elements on surface was determinate. Onlysmall amount of carbon or carbon compounds detected, easily removed by argon ion sputtering. Also, long argon ion sputtering partly depleted surface of oxygen.

Author Biographies

طلال خلاص

كلية العلوم - جامعة تشرين- اللاذقية – سورية.

عمار صارم

كلية العلوم - جامعة تشرين- اللاذقية – سورية.

Downloads

Published

2014-02-02

How to Cite

1.
خلاص ط, صارم ع. مطيافية إلكترون أوجيه لأفلام من أكسيد الزنك ZnO. TUJ-BA [Internet]. 2014Feb.2 [cited 2024Mar.29];36(1). Available from: https://journal.tishreen.edu.sy/index.php/bassnc/article/view/704

Most read articles by the same author(s)