دراسة الخصائص الضوئية لأفلام أوكسيد السيلكيون المشاب بالفضة المحضرة بتقانة (Flow-Coating Sol-Gel)
Abstract
في هذه الدراسة قمنا بتحضير أفلام رقيقة من أكسيد السيليكون النقي والمشاب بالفضة بتقانة المحلول الجيلاتيني بطريقة التدفق. وذلك انطلاقاً من المادة البادئة TEOS في محلين منفصلين هما الإيتانول والبروبانول ، ودرست إشابة المحلول الجيلاتيني النقي (لكل من المحلين على حِده) بنترات الفضة بنسبة 20% للحصول على أفلام رقيقة من أوكسيد السيليكون المشاب بالفضة في الدرجة 400 مئوية, بإتباع خطوات التحضير ذاتها.
وقد أظهرت الأغشية المحضرة باستخدام محل الإيتانول قيماً جيدة للنفوذية تراوحت بين80)-(91% في مجال الأشعة المرئية من اجل الأفلام النقية بينما تراوحت بين60)-(86% لاجل الأفلام المشوبة ، بينما أظهرت الأغشية المحضرة باستخدام البروبانول كمحل قيماً للنفوذية تراوحت بين(60-85)% في مجال الأشعة المرئية من أجل الأفلام النقية و (60-81)% لأجل الأفلام المشوبة.
وبلغت قيمة الفجــوة الطاقية للأغشية النقية المحضـرة باستخدام الايتانول كمحل ( eV 3.81 ) للانتقال المباشر المسموح و ( eV 3.79 ) للانتقال غير المباشر المسموح ، بينما بلغت القيمة باستخدام البروبانول كمحل (eV 3.78 ) للانتقال المباشر المسموح و ( eV 3.71 ) للانتقال غير المباشر المسموح و هذا يتوافق مع القيم المثبتة في المراجع العلمية .
(SiO2) and (Ag:SiO2)20% doping ratio thin films have been prepared by Sol-Gel Process with Flow Coating technique, using TEOS as starting materials and different solvents C2H5OH , C3H7OH at 400Co.
Generally films show high transmittance from (80%- 91%) for pure films and (60%-86%) for (Ag:SiO2) 20% doping ratio in the visible region of electromagnetic spectrum using C2H5OH solvent; while it is (60%-85%) for pure films and (60%-81%) for (Ag:SiO2) 20% doping ratio in the visible/near infrared regions of electromagnetic spectrum using C3H7OH solvent.
While the band gap of the pure oxide film is in the range of 3.81 eV. and 3.79 eV for direct and indirect transition allowed respectively using C2H5OH solvent , the band gap of the pure oxide film is in the range of 3.78 eV.and 3.71 eV for direct and indirect transition allowed respectively using C3H7OH solvent.
Downloads
Published
How to Cite
Issue
Section
License

This work is licensed under a Creative Commons Attribution-NonCommercial-ShareAlike 4.0 International License.
The authors retain the copyright and grant the right to publish in the magazine for the first time with the transfer of the commercial right to the Tishreen University Journal -Basic Sciences Series
Under a CC BY- NC-SA 04 license that allows others to share the work with of the work's authorship and initial publication in this journal. Authors can use a copy of their articles in their scientific activity, and on their scientific websites, provided that the place of publication is indicted in Tishreen University Journal -Basic Sciences Series . The Readers have the right to send, print and subscribe to the initial version of the article, and the title of Tishreen University Journal -Basic Sciences Series Publisher
journal uses a CC BY-NC-SA license which mean
You are free to:
- Share — copy and redistribute the material in any medium or format
- Adapt — remix, transform, and build upon the material
- The licensor cannot revoke these freedoms as long as you follow the license terms.
- Attribution — You must give appropriate credit, provide a link to the license, and indicate if changes were made. You may do so in any reasonable manner, but not in any way that suggests the licensor endorses you or your use.
- NonCommercial — You may not use the material for commercial purposes.
- ShareAlike — If you remix, transform, or build upon the material, you must distribute your contributions under the same license as the original.
- No additional restrictions — You may not apply legal terms or technological measures that legally restrict others from doing anything the license permits.