دراسة الخصائص البنيوية للأفلام الرقيقة المحضرة من أوكسيد السيلكيون بتقانة (Sol-Gel)
Abstract
قمنا في هذا العمل بتحضير أفلام رقيقة من أكسيد السيليكون المشاب بالفضة بتقانة المحلول الجيلاتينيSol-Gel بطريقة التغطية بالتدفق (Flow Coating) . حيث تم استخدام مادة تترا إيثيل أورتوسيليكات TEOS كمادة بادئة تم حلّها في محلين منفصلين هما الإيتانول C2H5OH والبروبانول C3H7OH للحصول على المحلول الجيلاتيني اللازم للتغشية (التغطية) وفق تقانة Sol-Gel بطريقة التغطية بالتدفق على ركائز زجاجية عادية بعد تنظيفها بعناية, وتمت معالجة العينات حرارياً في الدرجة 400Co لمدة ساعة ثم نقلت إلى مجفف درجة حرارته 200Co وتركت فيه لتنخفض درجتها ببطء لمدة ساعة, ووضعت بعدها في جو المختبر لإجراء الدراسات عليها. وبذلك تم الحصول على أفلام رقيقة من أوكسيد السيليكون النقي.
تمت الدراسة البنيوية باستخدام مطيافية انعراج الأشعة السينية XRD وتبين أن الفيلم الرقيق من أوكسيد السيليكون النقي قد تشكل عند الدرجة 400Co. ثم تمت إشابة المحلول الجيلاتيني (لكل من المحلين على حده) بنترات الفضة بنسبة 20% للحصول على أفلام رقيقة من أوكسيد السيليكون المشاب بالفضة باتباع الخطوات ذاتها. ووجد أن استخدام البروبانول كمحل يعطي نتائج عملية واضحة بالمقارنة مع المواصفات العالمية.
(SiO2) and (Ag: SiO2 ) Thin Films have been prepared by Sol-Gel Process with Flow Coating technique ,using TEOS as starting materials and different solvents C2H5OH , C3H7OH.
Silicon oxide (SiO2) Pure thin films have been deposited on cleaned glass substrates by a Sol– Gel with Flow – Coating process.
Thin films of SiO2 were successfully prepared by heat treatment at 400 Co and annealed at 200Co for one hour . Then these thin films have been studied by using X- Ray Difraction.
XRD spectra show that the films formed at 400Co. and (Ag: SiO2) films using C3H7OH solvent showed better stability and crystalline structure compared with C2H5OH solvent.
Downloads
Published
How to Cite
Issue
Section
License

This work is licensed under a Creative Commons Attribution-NonCommercial-ShareAlike 4.0 International License.
The authors retain the copyright and grant the right to publish in the magazine for the first time with the transfer of the commercial right to the Tishreen University Journal -Basic Sciences Series
Under a CC BY- NC-SA 04 license that allows others to share the work with of the work's authorship and initial publication in this journal. Authors can use a copy of their articles in their scientific activity, and on their scientific websites, provided that the place of publication is indicted in Tishreen University Journal -Basic Sciences Series . The Readers have the right to send, print and subscribe to the initial version of the article, and the title of Tishreen University Journal -Basic Sciences Series Publisher
journal uses a CC BY-NC-SA license which mean
You are free to:
- Share — copy and redistribute the material in any medium or format
- Adapt — remix, transform, and build upon the material
- The licensor cannot revoke these freedoms as long as you follow the license terms.
- Attribution — You must give appropriate credit, provide a link to the license, and indicate if changes were made. You may do so in any reasonable manner, but not in any way that suggests the licensor endorses you or your use.
- NonCommercial — You may not use the material for commercial purposes.
- ShareAlike — If you remix, transform, or build upon the material, you must distribute your contributions under the same license as the original.
- No additional restrictions — You may not apply legal terms or technological measures that legally restrict others from doing anything the license permits.