دراسة الخصائص الكهرضوئية للسيلكون المهدرج غير المتبلور وإمكانية استخدامه في طبقات التصوير الكهربائي

Authors

  • حسن سليمان

Abstract

قمنا في هذا البحث بدراسة تأثير ضغط المزيج الغازي المكوّن من الهيدروجين والأرغون على الخصائص الكهربائية والضوئية للأفلام الرقيقة (ذات السماكة الأكبر من) المحضرة من السيلكون المهدرج غير المتبلور (a-Si:H) وأشكال دخول الهيدروجين فيها. ودرسنا أيضاً أثر زيادة سماكة طبقات السيلكون المهدرج غير المتبلور على كثافة الحالات المتوضعة في الفجوة الطاقية. وعيَّنا القيمة الحدية لضغط المزيج الغازي الموافقة للقيمة العظمى لنسبة الناقلية الضوئية إلى الناقلية المظلمة، والتغير الحاد في متحولات الناقلية المظلمة، ومعطيات أطياف امتصاص الأشعة تحت الحمراء لهذه الطبقات. أضف إلى ذلك قمنا بحساب طاقة يورباك للأفلام الرقيقة a-Si:H ، واستنتجنا عدم إمكانية استخدامها في طبقات التصوير الكهربائي أحادية التركيب لأنها لا تتصف بالمقاومة النوعية المظلمة اللازمة لذلك. وأخيراً حصلنا على منحني التفريغ في حالة الظلام لطبقات التصوير الكهربائي ثلاثية التركيب حيث ازداد الكمون الأولي للشحَن بمقدار 68 V وتجاوز زمن التفريغ 10 s عند زيادة سماكة طبقات كربيد السيلكون المهدرج غير المتبلور (a-SiC:H) من القيمة إلى.

In this research, we studied the effect of the pressure of a mixture of Argon-Hydrogen gas on the electrical properties and photo-properties of thin films (thickness) prepared from amorphous hydrogenated silicon (a-Si:H) and the forms of the incorporation of hydrogen to it. Also, we studied the influence of increasing the thickness of a-Si:H layers on the density of localized states in energy gap. Then, we determined the critical value of the gas mixture pressure, which is consistent with maximum value of the ratio of the photoconductivity to dark conductivity, the critical change of dark conductivity parameters and, IR-absorption spectrum data of these layers. Also, we calculated Urbach's energy of a-Si:H thin films and concluded the impossibility of using them in single structured electrophotography layers, because they don't have the required enough dark specific resistance. Finally, we were able to get the discharge curve in the darkness case of the triple structured electrophotography layers, where the initial discharge potential increased by 68 V and the discharge time overreached 10 s  for this curve, when the thickness of amorphous carbide silicon (a-SiC:H) layers increased from to.

Downloads

Published

2018-12-05

How to Cite

1.
سليمان ح. دراسة الخصائص الكهرضوئية للسيلكون المهدرج غير المتبلور وإمكانية استخدامه في طبقات التصوير الكهربائي. TUJ-BA [Internet]. 2018Dec.5 [cited 2024Nov.24];30(3). Available from: https://journal.tishreen.edu.sy/index.php/bassnc/article/view/5066

Issue

Vol. 30 No. 3 (2008): العلوم الأساسية

Section

Articles

License

Creative Commons License

This work is licensed under a Creative Commons Attribution-NonCommercial-ShareAlike 4.0 International License.

The authors retain the copyright and grant the right to publish in the magazine for the first time with the transfer of the commercial right to the Tishreen University Journal -Basic Sciences Series  

 Under a CC BY- NC-SA 04 license that allows others to share the work with of the work's authorship and initial publication in this journal. Authors can use a copy of their articles in their scientific activity, and on their scientific websites, provided that the place of publication is indicted in Tishreen University Journal -Basic Sciences Series .  The Readers have the right to send, print and subscribe to the initial version of the article, and the title of Tishreen University Journal -Basic Sciences Series   Publisher

 

journal uses a CC BY-NC-SA license which mean

You are free to:

  • Adapt — remix, transform, and build upon the material
  •  
  • The licensor cannot revoke these freedoms as long as you follow the license terms.

 

  • Attribution — You must give appropriate credit, provide a link to the license, and indicate if changes were made. You may do so in any reasonable manner, but not in any way that suggests the licensor endorses you or your use.
  • NonCommercial — You may not use the material for commercial purposes.
  • ShareAlike — If you remix, transform, or build upon the material, you must distribute your contributions under the same license as the original.
  • No additional restrictions — You may not apply legal terms or technological measures that legally restrict others from doing anything the license permits.

Most read articles by the same author(s)